µLaser - Sistema de Litografía Láser Directa de Mutech Microsystems
El µLaser es un sistema de litografía láser de alta precisión diseñado para universidades y centros de investigación que buscan ampliar sus capacidades en microfabricación y nanomecánica. Este sistema permite la escritura directa en superficies recubiertas con resistencias fotosensibles, utilizando un láser de 405 nm y una resolución de píxeles submicrométrica en áreas grandes. Su diseño compacto y facilidad de uso hacen que sea ideal para laboratorios que necesitan un equipo versátil y de bajo mantenimiento, con componentes estándar que no comprometen la calidad de la escritura.
Especificaciones Técnicas:
- Dimensiones: 510 x 360 x 455 mm
- Peso: 16 kg
- Alimentación: 110v/220v, 400W
- Área de Escritura: 100x92 mm²
- Resolución del Láser: 3-5 µm (dependiendo del diseño)
- Etapa XY:
- Velocidad de escritura: 100-120 mm/s
- Precisión de posicionamiento: X = 0.16 µm, Y = 1.00 µm
- Ruido mecánico en ejes X y Y: < 1 µm
- Precisión de alineación para multicapas: 5-10 µm
Software:
- Formatos Soportados: PNG, GDSII
- Transformaciones Integradas: Rotación, reflexión, inversión, escalado, añadido de borde
- Modos de Escritura: Unidireccional o bidireccional (velocidad de escritura doble en bidireccional)
- Compensación de Curvatura de Sustrato: Vía medición de enfoque en 3 puntos o 4 puntos bilineal
- Calibración de tipo malla para compensación de curvatura en toda el área de escritura
Óptica:
- Longitud de Onda del Láser: 405 nm (opcional 375 nm)
- Microscopio Confocal: Integrado para enfoque, alineación e inspección del láser
- Iluminación Independiente Amarilla
- Tamaño del Punto del Láser Ajustable: Utilizando objetivos de microscopio estándar de la industria
- Objetivos Disponibles:
- Paso de ráster fino a grueso (0.8 - 5 µm)
Características Principales:
- Área de escritura amplia de 100x92 mm²
- Tamaño mínimo de característica de 3-5 µm
- Opción para escritura en resistencias fotosensibles SU8/Epoxy
- Diseño compacto para cabinas de flujo laminar o cajas de guantes
- Compensación para sustratos inclinados o curvos
- Capacidad de escribir múltiples diseños en un solo proceso
El µLaser de Mutech Microsystems es una herramienta avanzada que apoya el desarrollo científico y tecnológico al permitir la creación de prototipos de alta precisión para aplicaciones en ciencias básicas y aplicadas, con especial enfoque en facilidad de uso y bajo mantenimiento.
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